Features
工藝特點
晶片級底部填充通常採用非接觸式點膠,對散點及膠量要求較高。
晶片級底填工藝要點如下:
1、周邊有較多元件,溢膠寬度需要進行嚴格管控;
2、BGA晶片表面光滑,會對散點要求較高,表面不能有污漬;
3、BGA內部锡球非均勻排列,underfill過程中容易行程空腔;
4、機台底部加熱會影響到膠水粘度,從而影響膠量。
針對晶片級底填工藝,效率及一致性尤為重要。
晶片級底部填充通常採用非接觸式點膠,對散點及膠量要求較高。
晶片級底填工藝要點如下:
1、周邊有較多元件,溢膠寬度需要進行嚴格管控;
2、BGA晶片表面光滑,會對散點要求較高,表面不能有污漬;
3、BGA內部锡球非均勻排列,underfill過程中容易行程空腔;
4、機台底部加熱會影響到膠水粘度,從而影響膠量。
針對晶片級底填工藝,效率及一致性尤為重要。